《半導體》2奈米放量 家碩H2展拳腳

【時報-台北電】先進製程向2奈米及A14世代推進，EUV曝光層數與光罩使用需求同步增加，帶動光罩儲存、傳送、清洗、檢測及自動化設備商機升溫。家碩（6953）鎖定先進製程與EUV光罩自動化設備，隨2奈米製程放量，下半年設備出貨動能增溫，並提前布局High-NA EUV、大尺寸光罩及先進封裝應用，搭配南科新廠預計2027年第二季加入營運，中長期成長動能逐步成形。 家碩主要產品涵蓋半導體前段黃光製程的光罩清洗、交換、檢查、儲存及管理設備。隨製程微縮，EUV光罩價值及潔淨度要求提高，光罩從儲存、傳載到充氣保護的自動化需求同步提升，公司已將EUV光罩交換機、長期儲存Stocker及Mini-Stocker等產品納入布局，並以自主開發流量控制技術切入高階與EUV光罩充氣設備。 其中，2奈米成為近期最直接的成長引擎。公司表示，2奈米放量並銜接A14布局，先進製程對EUV光罩需求持續增加，相關儲存、傳送、清洗及自動化設備需求同步成長。除先進邏輯製程外，DRAM業者擴大導入EUV，也為家碩開啟另一波設備需求，目前相關專案持續推進，設備出貨動能可望延續至2027年。 下階段瞄準High-NA EUV。隨下一世代微影技術及大尺寸光罩技術發展，家碩已利用既有EUV光罩自動化設備基礎，參與新世代光罩周邊設備研發，提前卡位光罩儲存、傳送及自動化解決方案。公司同時將AOI結合AI影像辨識，應用於EUV POD與光罩檢測，並與客戶合作開發EUV pellicle檢測應用，藉此提高設備附加價值。 家碩已將光罩自動化傳載設備導入CoWoS相關製程，布局6吋及14吋光罩的清洗、檢測與自動化傳載應用，意謂公司成長來源逐步由晶圓製造擴展至先進封裝。海外方面，美國、日本及新加坡市場已有業務進展及訂單斬獲，並持續鎖定美國、日本及歐洲主要半導體客戶。 家碩正在南科興建第三期新廠，規劃約5,000坪，預計2027年第一季取得使用執照、第二季加入營運，為下一波產能擴張預作準備。(新聞來源 : 工商時報一張瑞益／台北報導)