【時報記者張漢綺台北報導】揚博(2493)新開發AMPOC Wing X設備,搶攻高階載板與玻璃載板市場,預計明年開始貢獻,半導體黃光材料佈局成果亦逐漸顯現,在PCB與半導體兩大業務成長可期下,揚博預估,2027年業績有望比今年好。
揚博9月17日舉行法說會,AI資料中心驅動PCB及載板製程往半導體等級靠攏,為因應高端載板與未來玻璃載板需求,揚博整合AMPOC SUPER DRY SYSTEM(超乾系統)等多項設備,開發出AMPOC Wing X垂直與水平系統。
揚博製造管理處副總經理巫坤星表示,高階載板ABF/IC Substrate層數增加、線路更細、孔徑更小,製程難度大幅提升,且厚大板與高縱橫比孔乾燥困難,傳統熱風乾燥效果不足,易造成板翹、氧化與殘留水分,玻璃載板(Glass Core Substrate)具備更高剛性與更低熱膨脹,但乾燥與製程控制更具挑戰,加上高端基板需在無塵化廠房生產,設備必須符合潔淨室環境要求,因而開發AMPOC Wing X,提供客戶多元選擇,目前AMPOC Wing X已接獲客戶訂單,有望於2027年開始出貨。
在半導體材料部分,揚博自2018年開始透過代理切入半導體黃光製程材料,並於今年1月與韓國DCT Material Co.合資成立「艾思麥創新材料」公司,揚博營業管理處副總經理李子勝表示,黃光製程換材料很不容易,目前認證已在最後一哩路,部分進入小量產,期待2027年能有成果,只要取得訂單就會啟動ISM工廠建置。
除積極推動半導體黃光材料認證及製造準備,揚博在用於探針卡(Probe Card)中介層(Interposer)如:垂直探針卡(VPC),在待測晶片(IC)與自動測試設備(ATE)之間扮演橋樑角色的MLO提供關鍵零組件高階測試載板,在當紅的CPO,目前揚博亦已有Shibuya設備,展現多元佈局成果。
李子勝表示,Shibuya主要是針對ELS的高精度固晶設備(如:FDB 210P系列),其主要目的是透過次微米級對位與動態熱壓合共晶技術,克服異質材料熱應力,解決InP雷射晶粒與光引擎的精密貼合痛點,隨著1.6T時代CPO架構落地,該設備正支援高功率光學元件的自動化量產,成為突破資料中心光電整合瓶頸的關鍵基礎設施,目前此設備已正式取得訂單,並預計在9月底進行交貨。
隨著多元佈局成果顯現,2026年MLO相關應用佔半導體業務營收佔比由2025年約9.4%上升至15.4%,先進封裝材料營收佔比由17.8%攀高至18.6%,黃光材料營收佔比亦由2.5%上升至3.9%。
揚博2026年上半年稅後盈餘為3.38億元,每股盈餘為2.67元,累計前8月合併營收為28.18億元,年增14.07%,其中PCB自製設備營收佔比約55%到60%,半導體相關營收佔比約40%到45%。
展望未來,揚博董事長特助蘇文博表示,明年公司兩大業務都有成長空間,希望明年能比今年好。
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