《大陸產業》蔡司：陸自研EUV還要15年

【時報-台北電】面臨美國製造設備出口管制的中國半導體產業，正加速國產替代步伐，以應對強勁的AI基礎設施需求。然而，在頂尖設備領域，雖傳出成功研製出浸潤式深紫外光曝光機（DUV），但對先進製程至關重要的極紫外光曝光機（EUV），外界評估其自主研製還需經歷10至15年。 繼瑞銀此前在報告中指出，中國本土EUV曝光機目前僅處於早期研發階段之後，長期為半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）供貨的德國蔡司集團，其半導體部門主管羅蒙德（Frank Rohmund）近日也指出，中國可能還需要約15年的時間，才能自行研發EUV曝光機。 然而，較次一級且有較高需求的DUV曝光機，此前傳出上海愛晟納已完成研製、正籌備量產。羅蒙德認為，並不意外中國長期的投入成果，但仍需觀察這些國產設備的實際性能。不過，美國若對舊式DUV加大出口管制涵蓋，反而可能加速中國的自主創新。 儘管尖端領域仍飽受箝制，但龐大的AI內需正為中國設備廠提供生存與擴張空間。上海證券報指出，在中國晶圓廠的成熟製程領域，2024年半導體設備國產化率約為35％，預估2025年將大幅攀升至約55％；2026年，12英寸矽晶圓的國產化率預計將接近50％。 相關大廠營收也反應本輪紅利，如清洗設備龍頭盛美上海今年上半年營收即達到人民幣37.18億元，年增13.87％；滬矽產業更表示，其材料領域國產化率已超80％。 雖然設備市占率在逐步提升，但相比於有成熟研發經驗的國際大廠，中國設備仍存在相較不成熟與耐用度較差的問題，正進入從「能用」到「好用」的2.0發展階段。盛紅燁半導體董事長陳捷認為，導入精益製造以提升設備的一致性與耐用度，是國產設備發展的必經之路。(新聞來源 : 工商時報一張全慶／綜合報導)